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氧化還原石墨研磨分散機，SGN石墨烯研磨設備采用德國的高速研磨分散技術，通過超高轉速（高可達14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉子（通常配GM+8SF，定轉子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流

高品相鎳粉高剪切研磨分散機，鎳粉有著廣泛的應用，所以，高品相鎳粉的研磨與分散必須選擇高品質(zhì)的研磨分散設備，才能保證鎳粉的細度和均勻度，SGN研磨分散機先研磨后分散，避免團聚，粒徑一般可細化至DN90≤5μm，粒徑更細，產(chǎn)品更均勻。

GMD2000沉淀活性二氧化硅研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

SG?納米樹脂研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

阿維菌素納米農(nóng)藥分散機主要用于微乳液及超細懸浮液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭（定子+轉子）同時工作，乳液經(jīng)過高剪切后，液滴更細膩，粒徑分布更窄，因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。

胃溶性包衣研磨分散機GM2000采用了三級錯齒磨頭定轉子，磨頭定轉子間隙在0.2-0.7之間，間隙可通過調(diào)節(jié)高速研磨機本身的調(diào)節(jié)柄來調(diào)節(jié)設備間隙，在轉速不變的情況下，間隙越小，速膠體磨研磨、分散效果會越好。

SGN納米氧化鋅超細分散機采取直立式設計，使物料可以全部進入分散腔，符合工藝要求和流體力學要求，增加其工作效率，z低處出口的出料設計符合生產(chǎn)要求，垂直的壓力使得該機器工作更加穩(wěn)定，同時便于清潔。

SGN銀漿管線式研磨分散機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。